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공동 연구 결과, 제올라이트 이미다졸레이트 골격(ZIF) 기반 포토레지스트 소재가 사용된 방사선원에 따라 서로 다른 패턴 인쇄 반응을 보이는 독특한 특성이 밝혀졌습니다.