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이 글은 회로 설계를 고려한 분석으로 뒷받침되는 맞춤형 공정 모니터가 측정 편차를 감지하는 단계에서 나아가 실리콘 동작 변화의 원인을 추론할 수 있는 방법을 설명합니다. 또한 단일 주파수 판독에 의존하는 방식에 대한 확장 가능한 대안으로 Global Variation Process Detector의 구조를 소개합니다.