Nitrogen gas flow

Por que a espessura do filme, por si só, não é suficiente para controlar resistores de SiCr em chips BCD?

Um material técnico da Onto Innovation explica que medir a espessura de filmes de SiCr não revela todas as diferenças de estrutura e propriedades que afetam o desempenho de resistores em chips BCD. O material apresenta o uso da tecnologia de ultrassom picosegundo juntamente com a medição simultânea de refletância para monitorar alterações no processo de deposição, especialmente as relacionadas ao fluxo de gás N₂.