En son haberleri, açıklamaları ve bağlantılı teknoloji hikâyelerini takip edin.
Çinli araştırmacılar, yüksek sayısal açıklıklı (High-NA) aşırı ultraviyole (EUV) litografi teknolojisinde maske soğurucuları için alternatif bir malzeme olarak platin-tungsten (Pt-W) alaşımının kullanımını öneren teknik bir çalışma yayınladı; bu çalışma üretim hassasiyetini artırmaya katkıda bulunabilir.