Chine

158 Articles

Alliage de platine et de tungstène : une solution prometteuse pour réduire l'épaisseur des absorbeurs de masques de lithographie EUV à haute ouverture numérique

Puces et semi-conducteurs

Alliage de platine et de tungstène : une solution prometteuse pour réduire l'épaisseur des absorbeurs de masques de lithographie EUV à haute ouverture numérique

Des chercheurs chinois ont dévoilé une étude technique proposant l'utilisation d'un alliage de platine et de tungstène (Pt-W) comme matériau alternatif pour les absorbeurs de masques dans la technologie de lithographie ultraviolette extrême (EUV) à haute ouverture numérique, ce qui pourrait contribuer à améliorer la précision de la fabrication.

2026-10-25