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中国の研究チームは、高開口数（High-NA）極端紫外線（EUV）リソグラフィ技術におけるマスク吸収体の代替材料として、白金タングステン（Pt-W）合金を使用することを提案する技術論文を発表し、製造精度の向上に寄与する可能性を示した。