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Des chercheurs chinois ont dévoilé une étude technique proposant l'utilisation d'un alliage de platine et de tungstène (Pt-W) comme matériau alternatif pour les absorbeurs de masques dans la technologie de lithographie ultraviolette extrême (EUV) à haute ouverture numérique, ce qui pourrait contribuer à améliorer la précision de la fabrication.