المؤسسة البحثية الرائدة التي شاركت في تطوير الدراسة.
كشف باحثون صينيون عن دراسة تقنية تقترح استخدام سبيكة البلاتين والتنجستن (Pt-W) كمادة بديلة لممتصات الأقنعة في تقنية الطباعة الحجرية فوق البنفسجية الشديدة (EUV) ذات الفتحة الرقمية العالية، مما قد يسهم في تحسين دقة التصنيع.