Acompanhe as últimas notícias, explicações e histórias tecnológicas relacionadas.
Pesquisadores chineses revelaram um estudo técnico que propõe o uso de uma liga de platina e tungstênio (Pt-W) como material alternativo para absorvedores de máscaras na tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV) de alta abertura numérica, o que pode contribuir para melhorar a precisão da fabricação.