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Um estudo de pesquisa conjunto revelou propriedades únicas de materiais fotorresistentes baseados em estruturas metalorgânicas zeolíticas, que apresentam respostas diferentes no padrão de impressão dependendo da fonte de radiação utilizada.
Pesquisadores chineses revelaram um estudo técnico que propõe o uso de uma liga de platina e tungstênio (Pt-W) como material alternativo para absorvedores de máscaras na tecnologia de litografia ultravioleta extrema (EUV) de alta abertura numérica, o que pode contribuir para melhorar a precisão da fabricação.
Uma compilação dos resultados de 80 empresas de semicondutores mostrou que o crescimento da demanda relacionada à inteligência artificial se estendeu dos processadores de data centers para a memória, o empacotamento avançado e os equipamentos de teste e fabricação. Onze empresas registraram crescimento superior a 100%, enquanto os resultados de telefones e eletrônicos de consumo foram mais variados.