الرقائق وأشباه الموصلات

باحثون يكتشفون سلوكاً متغيراً لمواد المقاومة الضوئية الجافة تحت أشعة EUV والحزم الإلكترونية

كشفت دراسة بحثية مشتركة عن خصائص فريدة لمواد المقاومة الضوئية المعتمدة على أطر الزيوليت المعدنية العضوية، حيث تظهر استجابات مختلفة في نمط الطباعة اعتماداً على مصدر الإشعاع المستخدم.

25 أكتوبر 2026
2 دقائق قراءة
2 قراءة
certi.news Editorial Team
باحثون يكتشفون سلوكاً متغيراً لمواد المقاومة الضوئية الجافة تحت أشعة EUV والحزم الإلكترونية

نشر فريق بحثي دولي يضم باحثين من جامعة KU Leuven، وجامعة كونسان الوطنية، وجامعة بروكسل الحرة (VUB)، ومركز الأبحاث imec، ورقة علمية جديدة في دورية ACS Applied Materials & Interfaces، تسلط الضوء على سلوك غير مسبوق لمواد المقاومة الضوئية (Photoresists) المستخدمة في عمليات التصنيع الدقيق لأشباه الموصلات.

ما الذي اكتشفه الباحثون؟

ركزت الدراسة على مواد مقاومة ضوئية من نوع "أطر الزيوليت المعدنية العضوية المهلجنة غير المتبلورة" (Halogenated Amorphous Zeolitic Imidazolate Frameworks - a-ZIF). وتعد هذه المواد من الركائز الأساسية لعمليات التصنيع المتقدمة، حيث يتم ترسيبها بالكامل عبر عمليات جافة (Dry-deposited)، مما يجعلها مرشحة قوية لتقنيات الطباعة الحجرية من الجيل التالي.

أظهرت النتائج أن هذه المواد تمتلك خاصية "تحويل النغمة" (Tone Conversion) التي تعتمد بشكل مباشر على مصدر الإشعاع المستخدم. بمعنى أن المادة تستجيب بطريقة مختلفة عند تعرضها للأشعة فوق البنفسجية المتطرفة (EUV) مقارنة بتعرضها للحزم الإلكترونية (E-beam)، وهو اكتشاف تقني مهم لفهم كيفية تفاعل المواد مع مصادر الطاقة المختلفة في بيئات التصنيع.

لماذا يهم هذا الخبر؟

تعتمد صناعة أشباه الموصلات بشكل متزايد على تقنيات الطباعة الحجرية المتقدمة لتقليص أبعاد الدوائر المتكاملة. إن فهم كيفية تغير سلوك مواد المقاومة الضوئية بناءً على مصدر الإشعاع يتيح للمهندسين:

  • تحسين دقة الأنماط المطبوعة على الرقائق السيليكونية.
  • تطوير عمليات تصنيع أكثر مرونة تتوافق مع مصادر إشعاع متنوعة.
  • تعزيز كفاءة استخدام المواد العضوية المعدنية في عمليات الترسيب الجاف، مما يقلل من العيوب التصنيعية.

هذا البحث يفتح الباب أمام تحسينات في دقة الطباعة الحجرية، وهو أمر حيوي مع توجه الصناعة نحو عقدة تصنيع أصغر وأكثر تعقيداً، حيث تصبح خصائص المادة عند المستوى الجزيئي عاملاً حاسماً في نجاح الإنتاج الضخم.

مصدر الخبر
Semiconductor Engineering
فتح المصدر الأصلي ↗
كيف أعددنا هذا الخبر؟

اعتمد الخبر على المصدر الأصلي الموضح أعلاه. قد نستخدم أدوات آلية للمساعدة في الاستخراج والتصنيف والصياغة، لكن النشر يخضع لقواعد تمنع المحتوى المكرر والقصير أو الروتيني منخفض القيمة. اقرأ سياستنا التحريرية.

c
كاتب المقال

certi.news Editorial Team

certi.news Editorial Team

The certi.news editorial team monitors technical sources and reconstructs news, verifying facts and context prior to publication.

من نفس التصنيف

مقالات قد تهمك

عرض كل الأخبار