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Eine gemeinsame Forschungsstudie hat einzigartige Eigenschaften von Fotolackmaterialien auf Basis metallorganischer Zeolith-Gerüste aufgedeckt, die je nach verwendeter Strahlungsquelle unterschiedliche Musterungsreaktionen zeigen.
Chinesische Forscher haben eine technische Studie vorgestellt, die die Verwendung einer Platin-Wolfram-Legierung (Pt-W) als alternatives Material für Maskenabsorber in der High-NA-EUV-Lithografie vorschlägt, was zur Verbesserung der Fertigungspräzision beitragen könnte.
Eine Zusammenstellung der Ergebnisse von 80 Halbleiterunternehmen zeigt, dass sich das mit künstlicher Intelligenz verbundene Nachfragewachstum von Prozessoren für Rechenzentren auf Speicher, fortschrittliche Verpackung sowie Test- und Fertigungsanlagen ausgeweitet hat. 11 Unternehmen verzeichneten ein Wachstum von mehr als 100 %, während die Ergebnisse im Bereich Mobiltelefone und Unterhaltungselektronik uneinheitlicher ausfielen.