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Un estudio de investigación conjunto ha revelado propiedades únicas de los materiales fotorresistentes basados en marcos zeolíticos metal-orgánicos, los cuales muestran diferentes respuestas en el patrón de impresión dependiendo de la fuente de radiación utilizada.
Investigadores chinos han revelado un estudio técnico que propone el uso de una aleación de platino y tungsteno (Pt-W) como material alternativo para los absorbedores de máscaras en la tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV) de alta apertura numérica, lo que podría contribuir a mejorar la precisión de la fabricación.
La recopilación de los resultados de 80 empresas de semiconductores mostró que el crecimiento de la demanda relacionada con la inteligencia artificial se extendió desde los procesadores para centros de datos hasta la memoria, el empaquetado avanzado y los equipos de prueba y fabricación. Once empresas registraron un crecimiento superior al 100 %, mientras que los resultados de los teléfonos y la electrónica de consumo fueron más variados.