Термины

Extreme Ultraviolet Lithography

Следите за последними материалами, объяснениями и связанными технологическими историями.

Последние материалы

CN
Исследователи обнаружили изменяющееся поведение сухих фоторезистов при воздействии EUV-излучения и электронных пучков

Исследователи обнаружили изменяющееся поведение сухих фоторезистов при воздействии EUV-излучения и электронных пучков

Совместное научное исследование выявило уникальные свойства фоторезистов на основе металл-органических каркасов цеолитного типа, демонстрирующих различные характеристики формирования рисунка в зависимости от используемого источника излучения.

CN
Платино-вольфрамовый сплав: перспективное решение для уменьшения толщины поглотителей масок в литографии EUV с высокой числовой апертурой

Платино-вольфрамовый сплав: перспективное решение для уменьшения толщины поглотителей масок в литографии EUV с высокой числовой апертурой

Китайские исследователи представили техническое исследование, предлагающее использование платино-вольфрамового сплава (Pt-W) в качестве альтернативного материала для поглотителей масок в технологии экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) с высокой числовой апертурой, что может способствовать повышению точности производства.

CN
Результаты 80 компаний показывают расширение волны спроса на чипы для искусственного интеллекта

Результаты 80 компаний показывают расширение волны спроса на чипы для искусственного интеллекта

Сводные результаты 80 полупроводниковых компаний показали, что рост спроса, связанный с искусственным интеллектом, распространился от процессоров для центров обработки данных на память, передовую упаковку, оборудование для тестирования и производства. У 11 компаний рост превысил 100%, тогда как результаты в сегментах смартфонов и потребительской электроники были более неоднородными.