Tecnologia de impressão de chips com ultravioleta extremo; o relatório aborda sua extensão para sistemas de alta abertura numérica.
Um relatório da Semiconductor Engineering analisa sete artigos de pesquisa sobre o crescimento de semicondutores bidimensionais, isolantes de porta ultrafinos, litografia EUV de alta abertura numérica, proteção de aceleradores de inteligência artificial contra ataques de inversão de bits e interfaces de memória e fotônica integrada.