Eine Technologie zur Herstellung von Chips mittels extrem ultravioletter Strahlung; der Bericht befasst sich mit ihrer Weiterentwicklung zu Systemen mit hoher numerischer Apertur.
Ein Bericht von Semiconductor Engineering stellt sieben Forschungsarbeiten vor, die sich mit dem Wachstum zweidimensionaler Halbleiter, ultradünnen Gate-Isolatoren, EUV-Lithografie mit hoher numerischer Apertur, dem Schutz von KI-Beschleunigern vor Bit-Flip-Angriffen sowie Speicher- und integrierten Photonik-Schnittstellen befassen.