Технология печати микросхем с использованием экстремального ультрафиолетового излучения; в отчёте рассматривается её расширение до систем с высокой числовой апертурой.
В отчёте Semiconductor Engineering рассматриваются семь научных работ, посвящённых росту двумерных полупроводников, сверхтонким затворам, литографии EUV с высокой числовой апертурой, защите ускорителей искусственного интеллекта от атак с инвертированием битов, а также интерфейсам памяти и интегрированной фотонике.