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Aleación de platino y tungsteno: una solución prometedora para reducir el espesor de los absorbedores de máscaras de litografía EUV de alta apertura

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Aleación de platino y tungsteno: una solución prometedora para reducir el espesor de los absorbedores de máscaras de litografía EUV de alta apertura

Investigadores chinos han revelado un estudio técnico que propone el uso de una aleación de platino y tungsteno (Pt-W) como material alternativo para los absorbedores de máscaras en la tecnología de litografía ultravioleta extrema (EUV) de alta apertura numérica, lo que podría contribuir a mejorar la precisión de la fabricación.

2026-10-25